化學沉銅是PCB線路板孔金屬化過程中,而孔壁鍍層的空洞是印制電路板孔金屬化常見的缺陷之一,因此解決印制電路板鍍層空洞問題是
深圳電路板廠家重點控制的一項內(nèi)容,但由于造成其缺陷的原因多種多樣,只有準確的判斷其缺陷的特征才能有效的找出解決的方案。
1、PTH造成的孔壁鍍層空洞
(1)沉銅缸銅含量、氫氧化鈉與甲醛的濃度
銅缸的溶液濃度是首先要考慮的。一般來說,銅含量、氫氧化鈉與甲醛的濃度是成比例的,當其中的任何一種含量低于標準數(shù)值的10%時都會破壞化學反應的平衡,造成化學銅沉積不良,出現(xiàn)點狀的空洞。所以優(yōu)先考慮調(diào)整銅缸的各藥水參數(shù)。
(2)槽液的溫度
槽液的溫度對溶液的活性也存在著重要的影響。在各溶液中一般都會有溫度的要求,其中有些是要嚴格控制的。所以對槽液的溫度也要隨時關(guān)注。
(3)活化液的控制
二價錫離子偏低會造成膠體鈀的分解,影響鈀的吸附,但只要對活化液定時的進行添加補充,不會造成大的問題?;罨嚎刂频闹攸c是不能用空氣攪拌,空氣中的氧會氧化二價錫離子,同時也不能有水進入,會造成SnCl2的水解。
(4)清洗的溫度
清洗的溫度常常被人忽視,清洗的佳溫度是在20℃以上,若低于15℃就會影響清洗的效果。
(5)整孔劑的使用溫度、濃度與時間
藥液的溫度有著較嚴格的要求,過高的溫度會造成整孔劑的分解,使整孔劑的濃度變低,影響整孔的效果,其明顯的特征是在孔內(nèi)的玻璃纖維布處出現(xiàn)點狀空洞。只有藥液的溫度、濃度與時間妥善的配合,才能得到良好的整孔效果,同時又能節(jié)約成本。藥液中不斷累積的銅離子濃度,也必須嚴格控制。
(6)還原劑的使用溫度、濃度與時間
還原的作用是去除去鉆污后殘留的錳酸鉀和高錳酸鉀,藥液相關(guān)參數(shù)的失控都會影響其作用,其明顯的特征是在孔內(nèi)的樹脂處出現(xiàn)點狀空洞。
(7)震蕩器和搖擺
震蕩器和搖擺的失控會造成環(huán)狀的空洞,這主要是由于孔內(nèi)的氣泡未能排除,以高厚徑比的小孔板為明顯。其明顯的特征是孔內(nèi)的空洞對稱,而孔內(nèi)有銅的部分銅厚正常,圖形電鍍層(二次銅)包裹全板鍍層(一次銅)。
2、圖形轉(zhuǎn)移造成的孔壁鍍層空洞
(1) 前處理刷板
刷板的壓力過大,將全板銅和PTH孔口處的銅層被刷磨掉,使后面的圖形電鍍無法鍍上銅,從而產(chǎn)生孔口環(huán)狀空洞。其明顯的特征是孔口的銅層漸漸變薄,圖形電鍍層包裹全板鍍層。所以要通過做磨痕測試,控制刷板壓力。
(2)孔口殘膠
在圖形轉(zhuǎn)移工序?qū)に噮?shù)的控制非常重要,因為前處理烘干不良、貼膜的溫度、壓力的不當都會造成孔口的邊緣部位出現(xiàn)殘膠而導致孔口的環(huán)狀空洞。
(3)前處理微蝕
前處理的微蝕量要嚴格控制,尤其要控制干膜板的返工次數(shù)。主要是孔中部因電鍍均勻性的問題鍍層厚度偏薄,返工過多會造成全板孔內(nèi)的銅層減薄,而終產(chǎn)生孔內(nèi)中部的環(huán)狀無銅。
3、圖形電鍍造成的孔壁鍍層空洞
(1)圖形電鍍微蝕
圖形電鍍的微蝕量也要嚴格的控制,其產(chǎn)生的缺陷與干膜前處理微蝕基本相同。嚴重時孔壁會大面積無銅,板面上的全板層厚度明顯偏薄。所以要定時測微蝕速率,好通過進行DOE實驗優(yōu)化工藝參數(shù)。
(2)鍍錫(鉛錫)分散性差
由于溶液性能差或搖擺不足等因素使鍍錫的鍍層厚度不足,在后面的去膜和堿性蝕刻時把孔中部的錫層和銅層蝕掉,產(chǎn)生環(huán)狀空洞。